गोलाकार सिलिकॉन पाउडर की उत्पादन प्रक्रिया और उपकरण

गोलाकार सिलिकॉन पाउडर उत्पादन प्रक्रिया और उपकरण

गोलाकार सिलिका पाउडर गोलाकार कणों और मुख्य घटक के रूप में सिलिकॉन डाइऑक्साइड के साथ एक अकारीय क्वार्ट्ज पाउडर सामग्री को संदर्भित करता है। इसके उत्पादन कच्चे माल मुख्य रूप से कोणीय सिलिका पाउडर हैं,और इसके उत्पादन के तरीकों में मुख्य रूप से शामिल हैंलौ पिघलने की विधि, प्लाज्मा हीटिंग फर्नेस विधि, रासायनिक संश्लेषण विधि, हाइड्रोलिसिस विधि,आदि।

वर्तमान में,लौ पिघलने की विधि मुख्य रूप से चीन में गोलाकार सिलिकॉन पाउडर के उत्पादन के लिए प्रयोग किया जाता हैइस तकनीक की कुंजी यह है कि हीटिंग डिवाइस को स्थिर तापमान क्षेत्र की आवश्यकता होती है, तापमान सीमा को समायोजित करना आसान होता है और सिलिकॉन पाउडर के लिए कोई माध्यमिक प्रदूषण नहीं होता है।

गोलाकार सिलिकॉन माइक्रोपाउडर के उत्पादन का सिद्धांत और प्रक्रिया
आवृत्ति प्लाज्मा पिघलने की विधि लौ पिघलने की विधि के समान है। यह मुख्य रूप से उच्च तापमान गर्मी स्रोत को प्लाज्मा जनरेटर में बदल देता है। इसकी मध्यम तापमान सीमा है,स्थिर नियंत्रण, उच्च उत्पादन, और एक उच्च spheroidization दर प्राप्त कर सकते हैं। इसलिए यह एक अधिक उपयुक्त उत्पादन विधि है। हाइड्रोलिसिस विधिद्रव SiCl जोड़ना है₄एक ही समय में क्वार्ट्ज छड़ी के साथ उच्च गति से हाइड्रोलाइज्ड को हिलाएं। उम्र बढ़ने, धोने और फ़िल्टर करने के बाद,प्राप्त हाइड्रोलाइज़ेट को 100°C-200°C पर एक स्थिर तापमान बॉक्स में स्थिर वजन तक सूखा और निर्जलित किया जाता है, और फिर एक उच्च तापमान सिंटरिंग भट्ठी में स्थानांतरित कर दिया जाता है। उच्च तापमान सिंटरिंग, निर्जलीकरण और क्रिस्टल रूपांतरण विभिन्न तापमानों पर किया जाता है।पीसने और छानने के बाद, उच्च शुद्धता वाले गोलाकार सिलिकॉन माइक्रोपाउडर को प्राप्त किया जाता है।
यह समझा जाता है किगोलाकार पाउडर उत्पादन प्रौद्योगिकी में निम्नलिखित शामिल हैंः(1) विस्फोट विधि, जिसका उपयोग माइक्रोन स्तर के उत्पादों को तैयार करने के लिए किया जाता है; (2) लौ विधि, जिसका उपयोग उप-माइक्रोन स्तर के उत्पादों को तैयार करने के लिए किया जाता है।यह विधि सबसे अधिक मात्रा में उत्पादों का उत्पादन कर सकती है; 3) तरल चरण विधि,जिसका उपयोग उच्च मूल्यवर्धित गोलाकार सिलिकॉन और गोलाकार एल्यूमीनियम तरल चरण के सिंथेटिक उत्पादों के उत्पादन के लिए किया जाता है जो बड़े कणों की अनुमति नहीं देते हैं और सख्त तकनीकी संकेतकों के होते हैंइनका उपयोग एम8 और उससे ऊपर के तांबे से लेपित लेमिनेट में किया जा सकता है।